IFNANO公司的EUV/XUV激光等离子体源与EUV光束聚焦系统相关产品介绍，应用于光学传感测试

EUV/XUV激光等离子体源 (Laser-plasma source)具体介绍：

通过将强Nd:YAG激光聚焦到脉冲气体靶中，可以点燃一个极紫外EUV等离子体。该光源在13.5 nm波长处可提供约4 mJ的脉冲能量，重复频率为1-10 Hz。其最显著的特点之一是结构紧凑，允许在实验室环境下进行EUV实验。经过优化的喷嘴几何形状可实现高达0.45%的转换效率。此台式极紫外与软X射线等离子源由哥廷根激光实验室（Laser-Laboratorium Göttingen）开发。等离子体由一台1064 nm, 800 mJ, 7 ns 的Nd:YAG激光器聚焦到脉冲气体射流中产生。可使用不同的靶气体来分别产生强宽带辐射（XUV：氪 Kr, 氩 Ar； EUV：氙 Xe）或较弱但窄带的辐射（XUV：氮 N； EUV：氧 O）。该等离子光源规格参数如下：

Table-Top EUV/Soft X-ray Source具备碎屑污染少、3.5 mJ高EUV能量、气体消耗量极低（脉冲持续时间< 1 ms）、靶气体更换简便与台式系统结构紧凑等优势。在应用方面可用于反射率测量，NEXAFS吸收光谱、光学/传感器测试、EUV损伤研究、材料相互作用的基础研究与水窗波段显微镜 (λ=2-4 nm)之中。

上图为通过椭圆透镜软X射线聚焦草图，通过激光粉图层CCD捕捉到以下的强度分布图。后续可通过软X射线显微镜得到如下所示的光束型状。

德国IFNANO的EUV/XUV激光等离子体源是一种紧凑型实验室光源，它通过高能激光激发等离子体，产生极紫外和软X射线（波长1-30nm）。使用该设备，研究人员可以在自己的实验室里进行光谱、反射率等测试，无需再依赖大型且昂贵的同步辐射装置，从而实现了独立、便捷的材料研究。台式极紫外与软X射线等离子源具有低碎屑污染、3.5mJ高紫外能量、极低气体消耗量，气体脉冲持续时间<1ms、简便的靶气体更换与桌面级实验平台等优点，常应用于近边X射线吸收精细结构谱NEXAFS中进行反射或吸收光谱、光学/传感器测试、极紫外损伤研究、材料相互作用的基础研究或2-4nm的“水窗”波段显微镜中。

EUV/XUV激光等离子体源原理，由高能激光聚焦于气体靶，发射光谱取决于靶气体类型。以下为不同靶气体的发射光谱。

EUV光束聚焦系统：

为产生高能量密度的极紫外辐射，德国IFNANO开发了一款针对13.5 nm辐射优化的改进型极紫外施瓦茨希尔德物镜（EUV Schwarzschild Objective）。该物镜由两个球形反射镜组成，基底采用ULE超低膨胀玻璃。该EUV光束聚焦系统通过钼/硅（Mo/Si）多层膜涂层使每个镜面反射率接近70%。系统孔径为0.44，放大倍率为0.1。在约100 mJ/cm²的能量密度下，所产生的极紫外聚焦光斑直径小于30 μm。该极紫外施瓦茨希尔德物镜规格参数如下：

借助此台式极紫外与软X射线等离子源和EUV光束聚焦系统，可以产生直径小于30微米、能量密度约100毫焦/平方厘米的聚焦光斑。因此，利用掩模投影技术，可以实现对不同材料的直接结构化加工。

德国IFNANO的极紫外光束聚焦系统，旨在探究脉冲软X射线辐射与物质相互作用的机理，以实现高分辨率直接结构化加工。如在氟化锂（LiF）晶体中生成色心、对聚合物（如聚甲基丙烯酸甲酯PMMA）进行直接光刻蚀，以及测定光刻胶在极紫外波段的感光度。

通过栅格扫描极紫外光斑直写LiF晶体色心，通过聚焦的极紫外辐射对PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）进行刻蚀，工作光斑直径分别为5μm和1μm。