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大矢高硅微透镜阵列的晶圆级同步刀具切削成型技术,MLSi,大数值孔径NA

作者:维尔克斯  时间:2024-9-11 12:06:03

利用晶圆级同步成型技术,能够生产300×300mm2的晶圆,配合晶圆级同步刀具切削成型技术及超精密微透镜阵列切削加工,可以将硅微透镜阵列生产的矢高极限从过去的50μm,推向4mm乃至更高,以此来制造大矢高硅微透镜阵列,超大数值孔径硅微透镜阵列和超大发散角硅微透镜阵列。目前晶圆级同步成型技术能制造矢高为250μm以上至数毫米的非球面柱面和不同子单元形状的大矢高硅微透镜阵列。


目前晶圆级同步成型技术能制造矢高为250μm以上至数毫米的非球面柱面和不同子单元形状的大矢高硅微透镜阵列。大矢高硅微透镜阵列的制造可以最大程度地提高硅微透镜阵列的数值孔径和发散角,以此利用独特的晶圆级同步成型技术进行超大数值孔径硅微透镜阵列的生产,可以为超大发散角硅微透镜阵列的创新应用提供全新的解决方案。通过该技术,表面粗糙度局部能达到2-5nm,整体达到30-200nm。面形误差和ROC误差达到±0.5%

该技术的推出主要能实现大批量的生产,扩展性强。先利用晶圆级同步成型技术生产大尺寸的12英寸晶圆基片,并基于晶圆基片利用别的技术生产不同领域不同应用的硅材料光学器件。在晶圆基片进入下一生产环节的时候,都将进行检验,以确保表面粗糙度和厚度符合要求。在晶圆基片上使用晶圆级同步刀具切削成型技术及超精密微透镜阵列切削加工工艺可以制造极高均匀度的超大发散角硅微透镜阵列、超大数值孔径硅微透镜阵列。几乎所有光学玻璃,水晶,陶瓷等材质都可以用晶圆级同步成型技术进行晶圆级同步成型制造,实现各类光学面型和透镜形状。因为硅材料透镜的表面反射率达到了30%,因此还能对各类光学元器件提供各种光学镀膜服务。

以上便是晶圆级同步成型技术和利用该技术、晶圆级同步刀具切削成型技术及超精密微透镜阵列切削加工的大矢高硅微透镜阵列,超大数值孔径硅微透镜阵列,超大发散角硅微透镜阵列的简介。如果有对应的微透镜或其他光学器件的需求欢迎咨询了解。




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