日本西格玛光机生产的低散乱平行平面基板（高平整度基板）是专为减少基板散射影响而设计的，通过特殊的抛光方法，使得它表面粗糙度可以控制在0.2nm（Ra）以下
所属品牌： 日本OptoSigma
负责人：韦工
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西格玛光机低散乱平行平面基板，超光滑表面(Ra＜0.2nm)，超光滑基板
日本西格玛光机生产的低散乱平行平面基板（高平整度基板）是专为减少基板散射影响而设计的，SIGMAKOKI（日本西格玛光机）的散乱平面基板和楔形基板(OPSQSP/OPCFSP/OPMFSP/WSSQSP/WSCFSP/WSMFSP)通过特殊的抛光方法，使得它表面粗糙度可以控制在0.2nm（Ra）以下，西格玛光机低散乱基板，OptoSigma超光滑基片和低散乱镜片这种精细的加工使得超光滑基板适合用于高能激光应用中的反射镜，以及X射线应用中的反射镜基板。
Optosigma低散乱平面基板的规格参数表：
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平行平面 |
||||||
|
型号 |
外径φD(mm) |
厚度t(mm) |
材质 |
面型精度 |
平行度(″) |
表面质量 |
|
OPSQSP-25.4C05-10-5 |
φ25.4 |
5 |
合成石英 |
λ/10 |
＜5 |
10－5 |
|
OPSQSP-30C03-10-5 |
φ30 |
3 |
合成石英 |
λ/10 |
＜5 |
10－5 |
|
OPSQSP-30C05-10-5 |
φ30 |
5 |
合成石英 |
λ/10 |
＜5 |
10－5 |
|
OPSQSP-50C05-10-5 |
φ50 |
5 |
合成石英 |
λ/10 |
＜5 |
10－5 |
|
OPCFSP-25.4C05-10-5 |
φ25.4 |
5 |
CaF2 |
λ/10 |
＜5 |
20－10 |
|
OPCFSP-30C05-10-5 |
φ30 |
5 |
CaF2 |
λ/10 |
＜5 |
20－10 |
|
OPMFSP-25.4C05-10-5 |
φ25.4 |
5 |
MgF2 |
λ/10 |
＜5 |
20－10 |
|
OPMFSP-30C05-10-5 |
φ30 |
5 |
MgF2 |
λ/10 |
＜5 |
20－10 |
|
平行平面 |
||||||
|
型号 |
外径φD(mm) |
厚度t(mm) |
材质 |
面型精度 |
平行度(″) |
表面质量 |
|
WSSQSP-30C05-10-1 |
φ30 |
5 |
合成石英 |
λ/10 |
1°±5′ |
10－5 |
|
WSSQSP-50C08-10-1 |
φ50 |
8 |
合成石英 |
λ/10 |
1°±5′ |
10－5 |
|
WSCFSP-30C05-10-1 |
φ30 |
5 |
CaF2 |
λ/10 |
1°±5′ |
20－10 |
|
WSMFSP-30C05-10-1 |
φ30 |
5 |
MgF2 |
λ/10 |
1°±5′ |
20－10 |
日本西格玛光机低散乱基板图示
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低散乱基片/高平整度基板共同指标 |
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材质 |
合成石英 紫外用CaF2 MgF2 |
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表面粗糙度 |
＜0.2nm（Ra） |
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有效直径 |
外径的90％ |
OptoSigma西格玛光机低散乱基片/低散乱镜片的特点：
- 楔形基板用于希望清除分光镜等反面反射的影响时。
- CaF2（氟化钙），MgF2（氟化镁）在紫外光谱区和红外光谱区具有较高的透过性。
- 低散乱平行平面基板的表面粗糙度（微观的凹凸）和面型精度（面整体的平坦程度）都进行了高精度加工，基板接近理想平面。
日本SIGMAKOKI西格玛低散射基板/低散乱基片相关信息：在楔形基板最厚的地方印有指向正面的箭头符号。
日本SIGMAKOKI西格玛光机低散乱基板的注意事项：
- 西格玛低散射基板/低散乱基片的两面都没有镀膜，玻璃表面存在2.5％〜4％的反射。
- 透过楔形基板使用时，光束会有0.5°左右的倾斜。
- CaF2表面很容易受损，不能用纸擦拭，请使用清洁用压缩气罐去除灰尘。
- CaF2，MgF2长时间放置在高湿度的环境下时，表面会变得粗糙，不使用时，请保管在自动干燥箱等湿度较低的环境中。
日本西格玛光机低散乱基板表面粗糙度Ra：
表示表面粗糙度的定义有JIS B0601规定，其中被频繁使用的表面粗糙度的定义为Ra。Ra经常以Å（埃：0.1nm）单位来表示。由测量值求出平均值，从测量值中减掉平均值得到绝对值，这个绝对值的平均值为Ra，虽与均方根（RMS）近似，但是比RMS稍微小的值。
超光滑基片表面粗糙度测量装置和测量数据（例子）：
低散乱平行平面基板/超光滑基片的功能说明图：
低散乱平行平面基板/超光滑基片的外形图：
