Ekspla的NL200系列纳秒激光器可以选配波长分别为532nm、355nm、266nm和213nm的谐波发生模块。其卓越的能量稳定性加上丰富的波长选择，使得这款激光器非常适合用于光谱学、光声成像以及遥感等应用领域。
所属品牌： Ekspla
负责人：包程鑫
联系电话：13417596712 电子邮箱：cxbao@welloptics.cn
213nm，脉宽7-10ns，1kHz，0.2mJ的Ekspla NL200激光器
Ekspla的NL200系列纳秒激光器可以选配波长分别为532nm、355nm、266nm和213nm的谐波发生模块。其卓越的能量稳定性加上丰富的波长选择，使得这款激光器非常适合用于光谱学、光声成像以及遥感等应用领域。机械稳定和气密密封的设计确保了213nm纳秒激光器组件的可靠运行和长寿命。再加之该213激光器短脉冲持续时间、可变重复频率、外部TTL触发和纳秒二极管泵浦等特性，NL200系列纳秒激光器对于脉冲激光沉积、透过面板的剥蚀或者对透明材料的内雕等需要高脉冲能量的应用拥有绝佳的性价比。
Ekspla 213nm激光器NL201，NL202和NL204的主要特点：
-在1064nm处高达4 mJ的脉冲能量（NL204）
-高达2500Hz的可变重复频率（NL201）
-可配备532nm，355nm，266nm和213nm波长的谐波发生模块
-<10ns脉冲持续时间
-电光Q开关
-风冷
-外部TTL触发
-使用REST API命令，通过键盘和/或在任何作系统上运行的任何控制器进行远程控制
在保持恒定脉冲能量的同时连续调整重复频率、卓越的光束指向和能量稳定性使213高能量纳秒激光器成为微加工、打标、薄膜去除应用的首选。213nm
ns激光器NL201，NL202和NL204具有接近高斯平滑光束轮廓，具有低值M2<1.3和良好的可聚焦性，有利于LCD和OLED显示器修复等应用。Ekspla纳秒激光器紧凑轻便，使激光器易于运输，可有效节省宝贵的实验室空间。
Ekspla
213nm激光器1064nm基频光可输出高达4mJ的脉冲能量，266nm输出0.6mJ。213激光器在213nm输出脉冲能量0.2mJ。该213nm纳秒激光器NL201的最高频率可达2500Hz，NL202和NL204的最高频率为1000Hz。213高能量纳秒激光器的脉宽为7-10ns，M2<1.3，典型光束直径 0.7mm。
Ekspla 213高能量纳秒激光器NL201，NL202和NL204的主要应用：
-材料加工
-LCD和OLED显示屏维修
-打标
-微加工
-雕刻
-激光沉积
-激光清洗
-烧蚀
-光谱学
-OPO泵浦
-遥感
Ekspla213nm ns激光器NL201，NL202和NL204的规格：
|
Ekspla纳秒激光器的型号 |
NL201 |
NL202 |
NL204 |
|
|
脉冲能量： @1064nm @532nm @355nm @266nm @213nm |
0.9mJ 0.3mJ 0.2mJ 0.08mJ 0.04mJ |
2mJ 0.9mJ 0.6mJ 0.2mJ 0.1mJ |
4mJ 2mJ 1.3mJ 0.6mJ 0.2mJ |
|
|
脉冲能量稳定性： @1064nm @532nm @355nm @266nm @213nm |
＜0.5% ＜2.5% ＜3.5% ＜4% ＜5% |
|||
|
脉宽 |
7-10ns |
|||
|
功率漂移 |
±2% |
|||
|
脉冲重复率 |
0-2500Hz |
0-1000Hz |
||
|
光束空间剖面 |
近场和远场均接近高斯分布 |
|||
|
椭圆率 |
1064nm时为0.9–1.1 |
|||
|
M2 |
<1.3 |
|||
|
光束发散角
|
＜3mrad |
|||
|
光束直径
|
0.7mm |
|||
|
光束指向稳定性（RMS） |
＜10μrad |
|||
|
光学抖动 |
＜0.5ns |
|||
|
偏振 |
线性 |
|||
|
Ekspla 213激光器的物理特性 |
||||
|
激光头尺寸 |
164×320×93mm |
|||
|
电源尺寸 |
470×390×140mm |
|||
|
连接线 |
3m |
|||
|
213nm ns激光器的操作要求 |
||||
|
冷却 |
风冷 |
|||
|
环境温度 |
18-30 °C |
|||
|
相对湿度 |
20-80%（非冷凝） |
|||
|
电源要求 |
100–240VAC，单相，50/60 Hz |
|||
|
功耗 |
< 600W |
|||
|
清洁度 |
不低于ISO9级 |
|||
Ekspla213nm纳秒激光器远场中的典型光束强度分布
