作者：维尔克斯 时间：2025-10-15 10:27:32
镀膜是光学元件与设备的核心技术。美国CVI公司凭借超过半个世纪的持续创新与工艺精进，已在该领域建立起卓越声誉。目前，其旗下品牌CVI Laser Optics已掌握并引领全球四大核心镀膜技术。本文旨在系统梳理这四项技术，以帮助客户深入理解其独特优势与应用价值。
电子束离子辅助沉积技术（IAD）
美国CVI同时也提供擅长于兼具经济、生产周期、宽波段的电子束离子辅助沉积技术（IAD）镀膜工艺。电子束离子辅助沉积技术（IAD）适用于各种形状、尺寸的CVI反射镜。甚至能适用于部分预成型光学元件（如棱镜）。并且由于电子束涂层具有多孔性，对涂层后表面精度性能变化不敏感。这些涂层因本色的散射很小，非常适合紫外波段应用。
电子束蒸发 (EBE)
电子束蒸发 (EBE)工艺非常适合于深紫外涂层。采用电子束蒸发 (EBE)工艺能减少缺陷并实现清晰的涂层沉积。由于电子束蒸发 (EBE)工艺采用的是软质涂层，因此受温度和湿度变化影响较大。美国CVI公司使用这种涂层技术制作金属光学元件和滤光片。
镀膜技术对比图表
以下将CVI四种不同不同的镀膜技术的主要技术生产特点进行了整理，可以让客户直观了解CVI Laser Optics的镀膜技术，选用合适的镀膜来为自己的应用添砖加瓦。
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镀膜技术 |
离子束溅射镀膜 |
先进等离子体源 |
电子束离子辅助沉积 |
热电子束蒸发 |
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密度 |
非常高 |
高 |
高-中 |
低 |
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耐用性 |
非常高 |
非常高 |
较高 |
良好 |
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平滑度 |
非常好 |
非常好 |
良好 |
良好 |
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波长范围 |
266~3500nm |
250~20000nm |
190~20000nm |
157~2100nm |
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基材材料 |
所有类型的玻璃基底 |
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镀膜材料 |
氧化物 |
氧化物；氟化物 硫化物；半导体 |
氧化物；氟化物 硫化物；半导体 |
氟化物 |
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生产周期 |
长 |
短-中 |
短-中 |
短 |
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生产价格 |
非常高 |
高 |
中 |
低 |
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可重复性 |
非常高 |
高 |
较高 |
良好（医疗级） |
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环境敏感性 |
非常稳定 |
非常稳定 |
稳定 |
不太稳定 |
离子束溅射镀膜（IBS）
离子束溅射镀膜（IBS）工艺可制备出致密的、耐久强且损伤阈值高的镀膜。当用户对于镀膜的性能非常注重时，离子束溅射镀膜（IBS）工艺是绝佳的选择。CVI Laser Optics采用了专有的原位工艺控制技术，能够以极高的精度沉积复杂的薄膜结构。
通过直接监控基板上的沉积薄膜以及使用端到端自动化技术，离子束溅射镀膜（IBS）工艺生产的CVI反射镜能够沉积超过200层薄膜，并确保每层都达到纳米级的重复精度。增强的光谱控制技术使得CVI反射镜具有更锐利特征、更高对比度、重复性良好的的性能和更严格公差。
先进等离子体源镀膜（APS）
先进等离子体源镀膜（APS）仍然能产生致密、耐久且具有高激光损伤阈值的涂层，相比离子束溅射镀膜（IBS）工艺，它在加工涂层速度和体积上有优势，但是在镀膜密度上略微低于离子束溅射镀膜（IBS）工艺。其更快速的加工周期和更宽泛的镀膜材料。使得先进等离子体源镀膜（APS）方式的性价比非常高。
