紫外激光干涉光刻制造闪耀光栅, VBG光栅,啁啾体布拉格光栅, Skylark 320/349nm单频激光器

高品质光栅的加工质量，核心取决于母版制作所用激光源的稳定性、相干性及波长参数。Skylark 320 nm 连续波 DPSS 单频激光器作为氦镉（HeCd）激光系统的固态替代产品，凭借其长相干长度、窄线宽、均匀强度分布以及稳定的运行特性，能够可靠地保障高质量光栅的生产。

与典型的氦镉激光器相比，Skylark 320nm DPSS激光器可提供更高的有效输出功率，其功率超过标准氦镉激光器的四倍，同时还能在长时间内保持稳定运行。Skylark 320/349nm单频连续DPSS紫外激光器的架构提供了卓越的空间相干性和TEM₀₀高斯光束轮廓，确保了光栅母版制作过程中干涉条纹的均匀性。这种更高、更可靠的紫外输出功率与卓越光束质量的结合，使得曝光时间比传统HeCd激光器更短，且光栅结构的一致性更高。

均匀强度≤0.3%RMS：均匀的激光强度，可制作出线间距和折射率一致、精准无瑕的光栅。

电源稳定性≤2.0%：功率稳定性确保了制备过程中的曝光一致性，从而实现了可重复的光栅效率以及基板上的均匀调制。

均匀光束M²≤1.1：采用纯TEM₀₀模式工作,椭圆度>95%,可提供均匀的空间质量和低噪声运行。

恒定波长±0.2pm：在较长时间内保持波长稳定，确保光谱一致性和光栅形成均匀。

Skylark 320/349nm常见问题解答：

Q：320nm是否适合用于光栅制造？

A：Skylark Lasers 320nm波长在许多用于光栅制造的行业标准光刻胶材料中具有很强吸收特性，从而能够实现精确的条纹记录和高衍射效率。对于从325nm切换至320nm的系统：许多光刻胶在320nm波长下具有高吸收率，而专为300–350nm设计的宽带紫外光学元件和镀膜均可兼容这两个波长。使用专门针对325nm调谐的滤光片或光学元件的系统可能需要进行调整。

Q：DPSS激光器能否在光栅制造中取代HeCd激光器？

A：Skylark Lasers 320nm单频连续DPSS紫外激光器具备光栅母版制作所需的相干性、光束质量和紫外波长。与典型的HeCd系统相比，其功率最高可达4倍，具备更好的稳定性。在生产线上改用DPSS激光器后，将获得更短的曝光时间、更均匀的干涉条纹以及更高重复性的光栅结构。Skylark激光器320nm波长下额外的可用紫外功率不仅能提高工艺吞吐量，还能在保持对刻槽深度和间距精确控制的同时，进一步优化生产效率。

Q：拥有DPSS激光器的成本是多少？

A：DPSS激光器属于固态激光器，无需依赖气体放电管，它没有需要更换的易耗件，也不存在需要处理的危险材料。此外，其能耗显著降低，并采用高效的热电冷却技术，与需要更频繁维护和更高运营成本的氦镉激光器系统相比，DPSS 激光器的日常运行成本更低。从氦镉激光器切换至DPSS系统后，总体拥有成本将大幅降低。解决SWAP-C（尺寸、重量、功耗、成本）限制、降低生产成本，并为量子使能技术构建稳健的供应链，将拓展现有机遇，并为量子导航、通信、传感和计算领域开辟新市场。

Skylark Lasers单频DPSS激光器可产生高分辨率、高保真度的光学光栅：

Skylark激光器凭借其均匀的强度、超稳定的输出以及高相干性，广泛应用于多种光栅母版制作工艺。使用Skylark 320/349nm单频连续DPSS紫外激光器，可以通过各种母版制作技术和应用，制作出高质量、高保真度的光栅：体布拉格光栅（VBG）、啁啾体布拉格光栅（CVBG）、基于光栅的传感器、衍射光学元件（DOE）、衍射光栅制造、激光干涉光刻、全息术、光谱学、干涉测量、光刻。

啁啾体布拉格光栅（CVBG）

啁啾布拉格光栅在光栅长度方向上具有变化的周期性，Skylark单频320nm激光器具有较长的相干长度和稳定的紫外输出，可实现高均匀度的调频轮廓精确记录。

线光栅Linear gratings

线性光栅由以均匀间隔蚀刻的平行线或沟槽组成，其性能取决于沟槽的间距和深度。

闪耀光栅（对称，正弦）Blazed gratings (symmetric, sinusoidal)

刻槽光栅的槽沟呈特定角度，经过优化可将光引导至预期的衍射级，对称刻槽光栅具有间距均匀、边缘锋利的槽沟，而正弦波光栅则具有波浪状结构。

交叉光栅Crossed gratings

交叉或棋盘光栅(Crossed or checkerboard gratings)是由两组相互垂直蚀刻的线性光栅构成，形成二维网格，从而在二维空间中操控光线。

衍射光学元件(DOE)

衍射光学元件利用微结构图案来控制和和塑造光束。这些元件能够高效地将光束分束、聚焦或匀化，广泛应用于光束整形、激光材料加工和先进成像等领域。。采用稳定的320nm单频激光器进行精密刻制，可确保均匀。

透射式和反射式全息光栅

透射光栅在光线穿过光栅基板时会使光线发生衍射，而反射光栅则会将光线从表面偏转，这两种光栅在光谱学、计量学和光束分析领域均有广泛应用。单频320nm DPSS激光器能够提供制造透射和反射光栅所需的空间相干性和光束均匀性，从而制备出具有清晰、可重复特征的光栅。

激光干涉光刻（LIL）Laser interference lithography

激光干涉光刻（LIL）技术通过将相干紫外光束重叠在光敏材料上，用于制备光学光栅的周期性结构。在320nm波长下，单频连续波DPSS激光器能提供足够的相干性和稳定性，形成均匀的干涉条纹，从而实现精确且可重复的光栅制造。该方法支持制造表面浮雕光栅、光子晶格和体布拉格光栅，广泛应用于光学和光子学领域。