透反射光谱测量系统采用电控独立双轴设计，配备高精度步进电机，控制发射端和接收端的角度测量，角分辨率达0.001°，重复精度达0.05°。光谱范围覆盖900-2500nm，通过软件控制发射端和接收端的角度，实现快速的光谱测量，可用于透射/反射/散射/荧光/辐射等多种全角度模式的光谱测量。
所属品牌： 维尔克斯光电
负责人：陈工
联系电话：13418906712 电子邮箱：chenpeng@welloptics.cn
近红外全角度透反射测量系统，900-2500nm，应用于材料测量领域
样品材料中的很多成份，当光束以不同的角度入射时，得到的透射率和反射率会因入射角度的变化而变化。通过测量不同角度入射，可获取材料在正入射时所得不到的信息，确定材料的最敏感角度，可以为进一步的研究或设计测量仪器提供依据。
我们提供可见-近红外全角度透反射测量系统搭配光谱仪和其他测量附件，可以实现光源的不同角度入射和接收，适用于mm量级样品的透射光谱测量及反射光谱测量。透反射光谱测量系统采用电控独立双轴设计，配备高精度步进电机，控制发射端和接收端的角度测量，角分辨率达0.001°，重复精度达0.05°。光谱范围覆盖900-2500nm，通过软件控制发射端和接收端的角度，实现快速的光谱测量，可用于透射/反射/散射/荧光/辐射等多种全角度模式的光谱测量。
主要特点：
-全角度测量：反射和透射，可以实现-90°至90°范围测量，散射、荧光和辐射，可以实现0°至180°测量。
-多种角度测量模式：可以进行反射、透射、荧光、散射辐射等多种光谱测量
-精确角度控制：高精度电机，角度精度达0.05°
-多维调节样品台：样品台由高精度三维位移台和三维旋转台组成，可实现样品的6维调节
技术参数：
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产品名称 |
近红外全角度透反射测量系统 |
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产品型号 |
XPNIR-RTM-A1 |
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光谱范围 |
900-2500nm |
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有效像素 |
512 |
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信噪比 |
>10000：1@100ms integration |
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测量时间 |
小于1秒 |
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检测器 |
带制冷，可制冷至-20℃ |
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光源光谱范围 |
350-2500nm |
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光源功率 |
100W |
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光锥半角 |
3° |
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入射范围 |
-90°-90° |
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出射范围 |
0-360° |
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最小步距 |
0.005° |
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重复精度 |
0.05° |
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测量模式 |
反射测量、透射测量、散射测量、荧光测量、辐射测量等 |
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样品台 |
高精度三维位移台加三维旋转台 |
-快速测量：快速对样品实现多种角度模式的光谱测量
-可选配件多样：根据客户的不同测量应用，可以选择不同的光源、滤光片、偏振片等配件完成不同的测量应用
多种全角度测量模式：
光谱角度测量模式：
反射式角度测量模式：镜面样品的反射夹角0°~180°，实现光谱的全角度测量。
透射式角度测量模式：入射角-90°~90°，接收角和入射角成180°（同一直线），实现透射光谱的全角度测量。
散射和荧光角度测量模式：入射角-90°~90°的任意角度上变化，接收角0°~360°范围内变化，实现散射和荧光光谱的全角度测量。
辐射角度测量模式：接收角0~360°范围内变化。
主要应用：
-纳米光学材料
-材料镀膜
-光子晶体器件
-传感器器件制备
-LED光源
-液晶显示
-角度相关材料分析
