Shibuya M-ePLAN-NIR系列是一款高性能的无限远校正物镜，专为1064 nm Nd:YAG 激光精密加工系统而开发。在优化激光加工效果的同时，该系列将校正波段延伸覆盖可见光640nm以及近红外940～1064nm，实现了加工与成像光路的良好匹配，可支持加工过程中的实时清晰观察，从而有效提升工业微加工系统的精度与整体作业效率。
所属品牌： OptoSigma Shibuya
负责人：肖工
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M-ePLAN-NIR，50,100×,焦距1.8,3.6mm,1064nm,45mm齐焦近红外物镜
Shibuya M-ePLAN-NIR系列是一款高性能的无限远校正物镜，专为1064 nm Nd:YAG 激光精密加工系统而开发。在优化激光加工效果的同时，该系列将校正波段延伸覆盖可见光640nm以及近红外940～1064nm，实现了加工与成像光路的良好匹配，可支持加工过程中的实时清晰观察，从而有效提升工业微加工系统的精度与整体作业效率。西格玛光机提供近红外高功率物镜HPOBL-NIR系列，与Shibuya的M-ePLAN-NIR系列物镜一样，其齐焦距离为45mm。
45mm齐焦近红外物镜技术参数表（上表为Shibuya型号，下表为西格玛光机型号）：
|
规格型号 |
倍率 |
数值孔径 (NA) |
工作距离 (WD) |
焦距 (F) |
分辨率 (R) |
景深 (DOF) |
φ25目镜视场 |
1/2英寸相机视场 (4.8×6.4mm) |
|
M-ePLAN-NIR50 |
50倍 |
0.65 |
3.1-3.83mm |
3.6mm |
0.42μm |
±0.7μm |
Φ0.5mm |
0.1×0.13mm |
|
M-ePLAN-NIR100 |
100倍 |
0.75 |
3.4mm |
1.8mm |
0.37μm |
±0.5μm |
Φ0.25mm |
0.05×0.06mm |
|
M-ePLAN-NIR100A |
100倍 |
0.8 |
3.3mm |
1.8mm |
0.34μm |
±0.5μm |
Φ0.25mm |
0.05×0.06mm |
|
型号 |
增透膜波长(nm) |
倍率(倍) |
焦距(mm) |
NA |
工作距离WD |
分辨率(μm) |
焦深(μm) |
瞳孔直径(mm) |
实际视场(φ24目) |
激光损伤阈值 |
自重(kg) |
|
HPOBL-5-NIR |
980-1100 |
5x |
40 |
0.125 |
36 |
5.2 |
41.5 |
10 |
2.4 |
10J/cm2 |
0.016 |
|
HPOBL-10-NIR |
980-1100 |
10x |
20 |
0.25 |
15.2 |
2.6 |
10.4 |
10 |
0.8 |
10J/cm2 |
0.03 |
|
HPOBL-20-NIR |
980-1100 |
20x |
10 |
0.4 |
5.2 |
1.6 |
4.1 |
8 |
0.7 |
10J/cm2 |
0.045 |
西格玛光机/ Optosigma的近红外高功率物镜HPOBL-NIR系列产品描述
该系列物镜全部采用合成石英材料制成，镜片之间采用空气隙设计而非光学胶胶合，以提升高功率激光条件下的稳定性与可靠性，适用于大功率激光的聚焦或准直应用。
具体型号包括HPOBL-20-NIR、HPOBL-10-NIR和HPOBL-5-NIR。这些物镜针对可见光至近红外波段单色光设计，镀有980~1100nm宽带减反射膜，可支持较宽光谱范围内的多种波长激光。此外，它们在632.8nm波长仍具有一定透过率，可使用He-Ne激光作为导向光。
HPOBL-NIR系列物镜不仅适用于激光加工，也可用于观察与分析用途。为保护物镜免受激光加工时飞溅粉尘的损伤，10倍物镜可安装可更换的保护窗玻璃，而20倍物镜已标配自带保护窗玻璃。
涩谷光学45mm齐焦距离物镜产品描述
45mm齐焦距离物镜是专为YAG激光（1064nm）加工设计的高数值孔径无限远校正物镜，同时可用于明场观察，具有以下特点：
-无限远校正光学系统
-45mm齐焦近红外物镜校正范围覆盖可见光（640nm）与近红外（940～1064nm）波段
-高分辨率规格，齐焦距离：45mm
-NIR50型号具备可调工作距离，NIR100型号配备保护玻璃，耐受高功率激光
-近红外物镜45mm齐焦核心性能优势：高NA与针对性设计满足严苛需求该系列提供 50倍及100倍 两种核心倍率，其最突出的特点是全系配备了极高的数值孔径。
-近红外物镜45mm齐焦有卓越的分辨率与加工精度：数值孔径（NA）高达 0.65 至 0.8，确保了物镜具备极高的分辨率，能将激光能量汇聚成亚微米级的微小光斑，这对于实现高精度的切割、打标和微纳加工至关重要。
45mm齐焦距离物镜灵活性与耐用性兼备：M-ePLAN-NIR50 型号提供了 3.1mm 至 3.83mm 的可调工作距离，为用户在复杂工况下进行调焦或避让夹具提供了极大的操作灵活性。而两款100倍物镜，特别是 M-ePLAN-NIR100A，则通过集成专用保护玻璃，显著提升了其对高功率激光的耐受性，保障了设备在长期高强度使用下的稳定与可靠。
为工业集成优化的设计特性：涩谷光学45mm齐焦近红外物镜严格遵循 45mm 齐焦距离 工业标准，使得在集成多物镜的自动化加工平台上进行快速、精准的倍率切换变得轻松便捷，有效减少重复对焦时间，提升产线吞吐量。此外，物镜外形结构紧凑，便于集成到各种激光加工头或显微系统中。
广泛的应用场景覆盖凭借其强大的性能，涩谷光学近红外物镜45mm齐焦是以下应用的理想选择：精密激光微加工：如半导体芯片的微切割、FR4/PCB材料的精密切割与钻孔，以及金属表面的精细打标；科研与实验：在需要高功率激光照射与同步成像的先进光学实验 setups 中作为核心成像组件；工业在线检测与质量监控：在激光加工的同时，直接对加工效果进行高清晰度的原位质量监测与控制。
Shibuya近红外物镜45mm齐焦M-ePLAN-NIR50，M-ePLAN-NIR100，M-ePLAN-NIR100A外形图：
